半导体生产用2吨EDI超纯水设备

ꁆ ꁇ

厂家咨询电话：189-2841-7159

<<<点击获取方案报价清单>>>

制水工艺：一级RO+EDI+抛光
产水量：2.0吨/小时
型号：2.0TH-BE-SH
产水质：电阻率≥18.25Ω·m 或电导率≤10us/cm（温度25℃）

占地面积：20-25平方米

适用范围：电镀/化工/电子/清洗/新能源/锅炉/食品/半导体等行业
重合同守信：●发货安装准时●发票准时●售后准时●品质保障零投诉

EDI 设备的离子脱除核心依托离子交换原理实现：原水中的各类离子流经树脂层时，会被树脂吸附截留，从而完成水质纯化过程。设备通过在离子交换膜两侧施加稳定电压，促使水分子发生电解反应，生成 H + 和 OH - 离子。这些离子会对树脂进行在线再生，替代传统化学再生方式；同时，被 H + 和 OH - 从树脂上置换下来的杂质离子，在稳压稳流电源的驱动下，定向迁移至浓水室集中排出，最终实现树脂的连续再生与设备的持续稳定运行。

按吨位查找（单位：吨/小时）

‍0.5　1.0 2.0 3.0 4.0　 5.0 6.0 8.0 10‍ 12 15 18 20 25 30 35 40 50 60 80 100　120‍ 150‍ 200

一、技术参数：

进水源：反渗透RO产水，电导率1-10μ S/cm

PH值： 6.5-9.0

温度： 5℃--38℃

硬度： ≤0.5ppm(以 CaCO3 计)

颗粒： ≤1μ m

有机物： TOC 小于 0.5ppm（建议检测不出）

氧化物： ≤0.02ppm

硅： ≤0.02ppm

重金属离子： ≤0.1ppm

进水压力： 0.2—0.4MPa

产水压力：产水压力比浓水压力高0.05-0.1Mpa，膜堆压差取决于流量与温度

我司安排现场安装、调试、培训以及定期保养。更多产品型号及价格189-2841-7159 <<<<欢迎点击询价

二、制水工艺：

原水箱→原水加压泵→石英砂过滤器→活性碳过滤器→全自动软水器(选用)→保安过滤器→一级反渗透系统→纯水箱-输送泵系统（选用）

三、EDI超纯水设备系统适用行业　

◆GMP医药要求：体外诊断试剂、实试室超纯水等用水。

◆电池行业：蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用纯水。

◆电镀行业：镀金、镀银、镀铬、塑料电镀、化学镀、镀锌等用水。

◆化妆品行业：护肤品生产用水等。

◆电子工业：显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗；液晶屏屏面清洗和配液：晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水。

◆玻璃镀膜用高纯水、玻璃制品清洗用水、灯具清洗用水等等。

四、根据水质要求采用适合工业流程和设备材质

制水工艺	产水水质	特点/优略	备注
一级RO＋EDI	电阻率≥1-15Ω·m	适合：对电阻率要求1兆欧以上要求相对低的超纯水；优点：投入成本低、耗能少	《报价表《《更多
二级RO＋EDI	电阻率≥15Ω·m	适合：对电阻率要求稳定在15兆欧以上的超纯水；优点：产水质稳定性高、EDI寿命较长	《报价表《《更多